Photo etching
포토에칭
- 포토에칭이란?
일반적으로 반도체 집적회로, CRT 용 Shadow Mask, Lead Frame 등을 만들 때 사용되는 기술로 Photolithography 기술과 Etching 기술이 접목된 기술을 말합니다.
Photolithography 기술은 Pattern을 형성하기 위하여 Substrate 위에 감광액을 도포하고, Photo Mask을 통하여 자외선으로 감광막을 선택적으로 노광하고 현상합니다.
현상된 감광막은 그다음 공정인 Etching(식각) 공정에서 보호막으로 작용하여 원하는 부분만 선택적으로 가공되도록 하는 역할을 합니다.
- 포토에칭의 장점
당사의 주요 생산은 다양한 형태의 재료를
화학적인 가공 기술로 정밀부품을 제작하는 것입니다.
- 에칭 단면 형성
